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  • GMSD2000軟團(tuán)聚納米材料高剪切分散機(jī)
    軟團(tuán)聚納米材料高剪切分散機(jī)

    軟團(tuán)聚納米材料高剪切分散機(jī),采用膠體磨+分散機(jī)一體化的結(jié)構(gòu),二級模塊處理,先研磨后分散,打開納米粉體的聚集體,然后再瞬間充分均勻的分散,一般納米材料分散后,粒徑可達(dá)DN90小于300nm。

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  • GMSD2000碳納米纖維超高速分散機(jī)
    碳納米纖維超高速分散機(jī)

    碳納米纖維超高速分散機(jī),線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。

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  • GMD2000薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)
    薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)

    SGN薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)的設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

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  • GMD2000氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)
    氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)

    SGN氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

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  • GMD2000白藥濕法高剪切研磨分散機(jī)
    白藥濕法高剪切研磨分散機(jī)

    SGN白藥濕法高剪切研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

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  • GMD2000工業(yè)化鋰電池錳酸鋰研磨分散機(jī)
    工業(yè)化鋰電池錳酸鋰研磨分散機(jī)

    工業(yè)化鋰電池錳酸鋰研磨分散機(jī)將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

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  • GMD2000粘彈性活性水壓裂液研磨分散機(jī)
    粘彈性活性水壓裂液研磨分散機(jī)

    粘彈性活性水壓裂液研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下,同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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  • GMD2000碳納米管聚氨酯混合分散機(jī)
    碳納米管聚氨酯混合分散機(jī)

    GMD2000系列碳納米管聚氨酯混合分散機(jī)工作腔采用夾套設(shè)計(jì),可加熱或者冷卻(不與物料接觸),這款研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。

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